Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2)
Se investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas...
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Altri autori: | , , , |
| Natura: | article |
| Lingua: | spagnolo |
| Pubblicazione: |
2013
|
| Soggetti: | |
| Accesso online: | http://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369 |
| Tags: |
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne!!
|
| _version_ | 1869652476727132160 |
|---|---|
| author | Santamaría L., Mariano |
| author2 | Cruz de Gracia, Evgeni S. Schelp, Luiz F. de Almeida, Thiago Mori Domínguez Della Pace, Rafael |
| author2_role | author author author author |
| author_browse | Cruz de Gracia, Evgeni S. Domínguez Della Pace, Rafael Santamaría L., Mariano Schelp, Luiz F. de Almeida, Thiago Mori |
| author_facet | Santamaría L., Mariano Cruz de Gracia, Evgeni S. Schelp, Luiz F. de Almeida, Thiago Mori Domínguez Della Pace, Rafael |
| author_role | author |
| collection | Repositorio Institucional de documento digitales de acceso abierto de la UTP |
| dc.creator.none.fl_str_mv | Santamaría L., Mariano Cruz de Gracia, Evgeni S. Schelp, Luiz F. de Almeida, Thiago Mori Domínguez Della Pace, Rafael |
| dc.date.none.fl_str_mv | 2013-07-05 2013-07-05 2017-07-31T16:20:43Z 2017-07-31T16:20:43Z 2017-07-31T16:20:43Z 2017-07-31T16:20:43Z |
| dc.format.none.fl_str_mv | application/pdf |
| dc.identifier.none.fl_str_mv | http://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369 http://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369 |
| dc.language.none.fl_str_mv | spa spa |
| dc.rights.none.fl_str_mv | https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ info:eu-repo/semantics/openAccess |
| dc.source.none.fl_str_mv | reponame:Repositorio Institucional de documento digitales de acceso abierto de la UTP instname:Universidad Tecnológica de Panamá instacron:U Tecnológica de Panamá |
| dc.subject.none.fl_str_mv | Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica |
| dc.title.none.fl_str_mv | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| dc.type.none.fl_str_mv | info:eu-repo/semantics/article info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
| description | Se investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distintas temperaturas sobre substratos de SiO2/Si (100). La caracterización estructural por difracción de rayos X (XRD) mostró la presencia de la fase M1 del VO2. Los parámetros de red y el volumen de la celda unitaria cambian levemente con el aumento de la temperatura de deposición. La caracterización eléctrica de la resistencia como función de la temperatura, por el método de cuatro puntas, muestra transición de fase reversible, con histéresis térmica en todas las muestras. Conforme aumenta la temperatura de deposición, se observó un incremento en la temperatura de transición (TMIT), entre 67 °C y 73 °C, para el ciclo de calentamiento, manifestándose además, una disminución en la variación de la resistencia eléctrica durante la transición, afectando la forma y tamaño del lazo de histéresis. Los resultados experimentales demuestran que las películas delgadas de VO2 son policristalinas y que la temperatura de deposición afecta los parámetros estructurales y de transición metal–aislante, explicando la aparición de estrés en el material depositado. |
| eu_rights_str_mv | openAccess |
| format | article |
| id | lrtest_e628a087381673dbb7db322565b66a2b |
| instacron_str | U Tecnológica de Panamá |
| institution | U Tecnológica de Panamá |
| instname_str | Universidad Tecnológica de Panamá |
| language | spa |
| network_acronym_str | lrtest |
| network_name_str | lr |
| oai_identifier_str | oai:ridda2.utp.ac.pa:123456789/2369 |
| publishDate | 2013 |
| publishDateSort | 2013 |
| reponame_str | Repositorio Institucional de documento digitales de acceso abierto de la UTP |
| repository.mail.fl_str_mv | |
| repository.name.fl_str_mv | |
| repository_id_str | |
| rights_invalid_str_mv | https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ |
| spelling | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2)Santamaría L., MarianoCruz de Gracia, Evgeni S.Schelp, Luiz F.de Almeida, Thiago MoriDomínguez Della Pace, RafaelTransición Metal–Aislante (MIT)Erosión IónicaDifracción de rayos X (XRD)Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT)Histéresis TérmicaTransición Metal–Aislante (MIT)Erosión IónicaDifracción de rayos X (XRD)Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT)Histéresis TérmicaSe investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distintas temperaturas sobre substratos de SiO2/Si (100). La caracterización estructural por difracción de rayos X (XRD) mostró la presencia de la fase M1 del VO2. Los parámetros de red y el volumen de la celda unitaria cambian levemente con el aumento de la temperatura de deposición. La caracterización eléctrica de la resistencia como función de la temperatura, por el método de cuatro puntas, muestra transición de fase reversible, con histéresis térmica en todas las muestras. Conforme aumenta la temperatura de deposición, se observó un incremento en la temperatura de transición (TMIT), entre 67 °C y 73 °C, para el ciclo de calentamiento, manifestándose además, una disminución en la variación de la resistencia eléctrica durante la transición, afectando la forma y tamaño del lazo de histéresis. Los resultados experimentales demuestran que las películas delgadas de VO2 son policristalinas y que la temperatura de deposición afecta los parámetros estructurales y de transición metal–aislante, explicando la aparición de estrés en el material depositado.Se investigó el efecto de la temperatura de deposición en los parámetros estructurales y de transición de la fase metal–aislante en películas delgadas de VO2, producidas mediante la técnica de Erosión Iónica en atmósfera reactiva. Las muestras fueron producidas como monocapas y depositadas a distintas temperaturas sobre substratos de SiO2/Si (100). La caracterización estructural por difracción de rayos X (XRD) mostró la presencia de la fase M1 del VO2. Los parámetros de red y el volumen de la celda unitaria cambian levemente con el aumento de la temperatura de deposición. La caracterización eléctrica de la resistencia como función de la temperatura, por el método de cuatro puntas, muestra transición de fase reversible, con histéresis térmica en todas las muestras. Conforme aumenta la temperatura de deposición, se observó un incremento en la temperatura de transición (TMIT), entre 67 °C y 73 °C, para el ciclo de calentamiento, manifestándose además, una disminución en la variación de la resistencia eléctrica durante la transición, afectando la forma y tamaño del lazo de histéresis. Los resultados experimentales demuestran que las películas delgadas de VO2 son policristalinas y que la temperatura de deposición afecta los parámetros estructurales y de transición metal–aislante, explicando la aparición de estrés en el material depositado.2017-07-31T16:20:43Z2017-07-31T16:20:43Z2017-07-31T16:20:43Z2017-07-31T16:20:43Z2013-07-052013-07-05info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionapplication/pdfhttp://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369http://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369spaspahttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/info:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositorio Institucional de documento digitales de acceso abierto de la UTPinstname:Universidad Tecnológica de Panamáinstacron:U Tecnológica de Panamáoai:ridda2.utp.ac.pa:123456789/23692021-07-06T15:34:50Z |
| spellingShingle | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) Santamaría L., Mariano Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica |
| status_str | publishedVersion |
| title | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| title_full | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| title_fullStr | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| title_full_unstemmed | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| title_short | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| title_sort | Efecto de la Temperatura de Deposición en los Parámetros Estructurales y de Transición Metal-Aislante, de Películas Delgadas de Dióxido de Vanadio (VO2) |
| topic | Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica Transición Metal–Aislante (MIT) Erosión Iónica Difracción de rayos X (XRD) Temperatura de Transición Metal–Aislante (TMIT) Histéresis Térmica |
| url | http://ridda2.utp.ac.pa/handle/123456789/2369 |